簡單經(jīng)濟的小型MBE設備，針對對本底真空需求不高的應用場景，可以快速的進出樣品。適合分子蒸鍍和簡單的熱蒸發(fā)。和熱蒸發(fā)設備相比，其具有薄膜厚度控制更，蒸發(fā)源溫度對襯底影響低，實驗重復性好等特點。設備所有技術兼容超高真空需求，后期可以方便升級至超高真空MBE系統(tǒng)。
△ 可定制功能：
● 腔體結構、傳樣機構、泵組及其品牌型號
● 樣品尺寸及其加熱方式
● 蒸發(fā)源口徑、溫度、加熱方式和數(shù)量
● 可擴展反射式高能電子衍射儀、紅外測溫儀、膜厚儀等
● 程序控制功能
● 腔體可做無磁處理
簡易分子束外延生長系統(tǒng)（Easy MBE）
